De lithografische proces werd in 1798 uitgevonden door de Duitse toneelschrijver Alois Senefelder . Senefelder ontdekte dat als hij trok op een plaat van kalksteen met op olie gebaseerde inkt , dan bevochtigd de steen , kon hij opnieuw de inkt van de steen met een roller en maak meerdere kopieën van de afbeelding . Inkt van de rol zou worden afgestoten door de natte stenen , en vasthouden wanneer de oppervlakte reeds werd geïnkt . Dit was een meer veelzijdige printtechnologie dan bewegende soort , welke beelden en script-gebaseerde teksten slecht behandeld .
Lithografie en Foto
Senefelder ontdekt dat een originele tekening zou kunnen zijn gebruikt om een beeld naar de steen voor reproductie . In de tweede helft van de 19e eeuw , werd fotografie aangepast aan dit doel. De steen werd bereid met een bekleding van lichtgevoelige stoffen . Het originele beeld is gedrukt op een transparante oppervlak of masker vervolgens gebruikt om een deel van het oppervlak maskeren , omdat het " "blootgesteld ; op dezelfde manier als een fotografische plaat .
Fotolithografie en maskers
Het proces van het gebruik van licht om een beeld voor de voortplanting te maken is overgebracht van het afdrukken naar de vervaardiging van moderne halfgeleiders . In deze het gewenste beeld gebruik, of masker , nog gemaakt op gecoat glas of iets dergelijks . Zichtbaar licht , of een andere vorm van straling , wordt vervolgens gebruikt om het patroon op wafers van silicium bedekt met lichtgevoelige chemische projecteren . Net als badpak lijnen op een zonaanbidder , wordt het patroon op het oppervlak . Het oppervlak wordt dan geëtst , afwisselend verwijderen van het patroon of het verlaten van het patroon tijdens het verwijderen van de omgeving .
Maskers , Fotolithografie en Microelectromechanical Devices ( MEMS )
Deze zelfde elementaire principes zijn aangewend om een nieuwere technologie die bekend staat als micro-elektromechanische apparaten ( MEMS ) . MEMS minuscule of microscopisch , inrichtingen die de functie van grotere machines repliceren op een schaal soms zo klein als een paar moleculen . Om de gewenste nauwkeurigheid te bereiken , worden maskers gebruikt in MEMS gieterijen meestal groter dan het eindproduct gemaakt , dan gericht door een lens mechanisme om de gewenste specificaties te bereiken . Op zulke kleine maten , de brandpuntsafstanden van de gebruikte optiek en de diepte van de silicium wafer significante geworden overwegingen bij het ontwerp .